新的温度控制解决方案
在ANALYTICA展位B2.315

2月20 - - 2020

Huber将展示用于研究实验室和过程工业的-125°C至+425°C温度控制的最新解决方案和发展

新的温度控制解决方案
在ANALYTICA展位B2.315

在ANALYTICA 2020年,Huber将展示用于研究实验室和过程工业的-125°C至+425°C温度控制的新解决方案和进一步发展。参观者可以在140平方米的展位上看到Huber产品系列的有趣截面,包括Unistats, Unichillers和经典的浴循环器。

本次演示的重点将是紧凑的辣椒加热循环恒温器。液压密封的温度控制回路,防止油蒸汽和氧化的形成。该设备的工作温度范围为65 ~ 300℃,温度稳定性为±0.02 K。仅240 x 427 x 393毫米(宽x深x高)。

另一个亮点将是新的冷阱模型:有了CT50和CT50 Twin,实验室中的蒸发任务现在更容易实现,成本更低。冷阱是专门为实验室中高效溶剂回收而开发的。

发现无制冷剂制冷的新方案。超紧凑,易于处理和多功能-新的Piccolo制冷机完全采用最先进的热电Peltier技术。这种技术可以精确快速地加热或冷却,完全不需要制冷剂,这对环境是一个明显的好处。

此外,还展示了畅销的Ministats和Minichiller以及各种Unistat过程恒温器。其他展览重点包括使用天然制冷剂的环保冷却装置,以及用于工艺开发和工业4.0的软件解决方案。

此外,我们的子公司Van der Heijden Labortechnik GmbH将在我们的展位上展示各种温度控制解决方案。我们的专家将在温度控制技术的各个方面为您提供建议。

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Huber展位位于B2馆315号展位。

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